气相二氧化硅简介
气相二氧化硅是由氯硅烷搭配精准配比的氢气、氧气，在1100–1800℃超高温氢氧焰中发生气相氧化水解反应，瞬时生成高球形度、高纯度、窄粒径分布的纳米二氧化硅原生颗粒。而制得的一种超细无定形二氧化硅，由于其用途广泛而享有 “工业味精”之称号。


气相二氧化硅的结构
气相SiO2是通过Si-O键形成三维网络的原子晶体。在此晶体中，每个Si原子采取sp3杂化以4个共价键与四个氧原子结合，而许多四面体又通过顶点的氧原子连成一个整体，即每个氧原子为两个四面体所共有，因此，从总体上看，二氧化硅的最简式为SiO2，但并不表示单个分子。

二氧化硅不会以原生粒子单独存在。

气相二氧化硅的结构

有机卤硅烷在高温水解缩合后得到粒径为7～350纳米的原生粒子，随着粒子远离火焰，温度降低，粒子之间相互碰撞、粘附和熔结形成聚集体。二氧化硅聚集体是由众多粒子熔结在一起，形状很不规则，主要为支链形。而聚集体又因氢键和范德华力的吸引而相互连在一起形成二氧化硅附聚体。附聚体不稳定，在受力后容易分开，受力消除后又容易再次附聚，而聚集体是稳定的，一般认为不会被轻易破坏。高温气相反应属于分子级均匀合成，无液相干扰、无结晶缺陷，生成的二氧化硅原生颗粒球形度高、粒径均匀、表面洁净，构建起优异的微观结构基础。

焰解反应可制得不同比表面积的二氧化硅

亲水型HQ气相二氧化硅粉产品系列

气相二氧化硅特性